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化学工学会第88年会(東京)

講演プログラム検索結果 : Nishida Satoshi : 2件

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講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
第 1 日
13:00～ 14:20		   座長 西田 哲・清水 秀治
F113ビスマス系ペロブスカイト薄膜の化学気相成長速度制御による太陽光発電性能の向上
(京大工) ○(海)楊 紫光・ (学)戸上 敬登・ (学)田邉 舞香・ (正)河瀬 元明
Chemical vapor deposition
Methylammonium bismuth iodide
Molten bismuth
5-h554
F114パラフィン、オレフィンからのコーク生成速度
fouling
coking
CVD
5-h528
F115トリエチルアルミニウムからのCVD法によるAlN薄膜の作製
(京大工) ○(学)村橋 孝亮・ (学)李 亜飛・ (正)河瀬 元明
CVD
triethylaluminum
AlN
5-h540
F116分子シミュレーションによるIII族前駆体がIII-V 化合物結晶成長に与える影響の検討
(京大工) ○(学)李 亜飛・ (学)村橋 孝亮・ (正)河瀬 元明
MOCVD
molecular simulations
III-V compound
5-h547
第 3 日
9:20～ 10:20		PD363アルカリエッチングによるシリコン基板上のテクスチャ形成と評価
alkaline etching
silicon substrates
texture
5-h312
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