English page RELOAD
SCEJ

化学工学会 第53回秋季大会 (長野)

Last modified: 2023-05-16 07:24:56

講演プログラム（会場・日程別） : DG会場・第1日

講演要旨閲覧およびGOING VIRTUALのID/PWは9/12午後に招待者および決済が完了した参加登録者にお知らせしました。(9/12以降の決済完了者は決済完了通知に記載されています。)
講演要旨は講演番号をクリックすることで閲覧できます。
講演プログラム一覧表の黄色背景は双方向ライブ配信併用、白色背景はオンライン口頭、緑色背景はオンラインポスターセッションです。
メニューページ記載のご説明もご一読ください。

DG 会場(C3 2F 202) ・ 第 1 日(9月14日(水))

SY-77 | SY-62

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
SY-77 [材料・界面部会シンポジウム]
材料・界面討論会 ～革新的な材料創出と界面現象の最先端～ （口頭発表部門） ＜ライブ配信併用＞
(9:40～10:40) (座長 石井 治之)
9:40～ 10:00DG103半可視的速流の目視観察での時系列性知覚の信頼性基準
reliability criteria
visual perception
pseudo-visible fast flow
SY-77525
10:00～ 10:20DG104微粒子分散液の非線形粘弾性が示す構造変化
rheology
colloidal suspension
numerical simulation
SY-77534
10:20～ 10:40DG105揮発性oil-in-waterエマルションの乾燥現象
Emulsion
Evaporation kinetics
distortion
SY-77235
(10:40～11:40) (座長 稲澤 晋)
10:40～ 11:00DG106ナノ細孔内臨界点の熱力学モデルの構築と分子動力学による検証
Nanopores
Supercritical
Phase Equilibrium
SY-77812
11:00～ 11:20DG107水分子が疎水性層状物質の吸着サイトおよび特性に与える影響の分子動力学法による解明
Molecular dynamics
Organoclay
Adsorption
SY-77664
11:20～ 11:40DG108ゲート型吸着材の破過曲線測定と非等温吸着カラムモデルによる解析
(京大院工) ○(学·技基)坂中 勇太・ (学)齋藤 遼太郎・ (正)平出 翔太郎・ (正)宮原 稔
metal-organic frameworks
gate adsorption
breakthrough curve
SY-77537
(13:00～14:00) (座長 石井 治之)
13:00～ 13:40DG113[招待講演] 高分子ゲル微粒子の界面現象
Polymer Microsphere
Microgel
Electrophoresis
SY-774
13:40～ 14:00DG115ナノ粒子表面近傍の誘電率とハンセン溶解度パラメータとの新たな相関構築
(東北大院工) ○(学·技基)望月 岳斗・ (正)菅 恵嗣・ (正)渡部 花奈子・ (正)長尾 大輔
nanoparticle
permittivity
Hansen Solubility Paramter
SY-77240
(14:00～15:00) (座長 菅 恵嗣)
14:00～ 14:20DG116温度応答性高分子被覆磁性吸着剤の色素吸着特性および凝集特性
Temperature-responsivity
Adsorption
Aggregation
SY-77349
14:20～ 14:40DG117シクロデキストリンの分子認識に基づく高感度自律膨潤収縮ポリマーの開発
N-isopropylacrylamide
cyclodextrin
autonomous motion
SY-7718
14:40～ 15:00DG118分解性ハイドロゲル微粒子の作製と評価
microspheres
microgel
degradation
SY-77512
SY-62 [反応工学部会シンポジウム]
資源・エネルギー・環境分野における反応工学の新展開 ＜ライブ配信併用＞
(15:20～16:00) (司会 上宮 成之)
15:20～ 16:00DG120[展望講演] 古河電工のカーボンニュートラル実現に向けた取り組み
Sustainability
Green Technology
Renewable Energy
SY-62501
(16:00～16:40) (司会 牧 泰輔)
16:00～ 16:40DG122[展望講演] ギ酸からの”連続”高圧水素製造技術
formic acid
hydrogen
high pressure
SY-62868
(16:40～17:20) (司会 河瀬 元明)
16:40～ 17:20DG124[展望講演] 考えよう日本半導体の将来、あなたの未来
semiconductor industry
technology
smart society
SY-62879
(17:20～18:00) (座長 小林 大祐・安田 啓司)
17:20～ 17:40DG126超音波を用いた有機溶媒中固体酸化銀の還元による銀ナノ粒子合成に及ぼす分散剤の影響
Ultrasound
Nanoparticles
Dispersant
SY-62837
17:40～ 18:00DG127重金属ナノ粒子が添加された光触媒粒子を含有する超音波霧化液滴を用いた揮発性有機化合物(VOC)の光触媒分解の向上
Volatile organic compound
Photocatalysis
Ultrasonic atomization
SY-62594

講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)  (同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会 第53回秋季大会 (長野)

(C) 2023 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
For more information contact 化学工学会 第53回秋季大会 実行委員会
E-mail: inquiry-53fwww3.scej.org