English page
SCEJ

化学工学会 第83年会

Last modified: 2018-02-27 10:00:00

講演プログラム検索結果 : 澤村 健一 : 2件

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
閲覧に必要なID/PWは受付でお配りするプログラム集冊子の1ページに記載しているほか、
事前参加登録者・ご招待者には2月27日にメールでお知らせしています。 詳細

発表者または座長 が『澤村 健一』と一致する講演：1件該当しました。
司会・座長氏名 が『澤村 健一』と一致するセッション：1件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 2 日
15:20～ 17:00		   座長 赤松 憲樹・澤村 健一
J220誘電体バリア放電反応器によるシリカ膜のプラズマCVD製膜
(広大院工) ○(正)長澤 寛規・ (学)香川 貴彦・ (正)金指 正言・ (正)都留 稔了
Silica membranes
Dielectric barrier discharge
Plasma-enhanced CVD
4-a527
J221対向拡散CVD法による高水素選択透過性シリカ膜の開発
(RITE) ○(正)浦井 宏美・ (正)西野 仁・ (正)瀬下 雅博・ (正)西田 亮一・ (正)中尾 真一
silica membrane
CVD
hydrogen
4-a607
J222親水性イオン液体修飾シリカ膜の開発とメタノール分離への応用
(阪大院基工) ○(正)廣田 雄一朗・ (学)山本 祐介・ (学)中居 拓斗・ (阪大基工) 速水 翔平・ (阪大院基工) (正)西山 憲和
organosilica membrane
ionic liquid
methanol separation
4-a316
J223疎水性シリカ膜を用いた有機溶媒ナノろ過プロセスの開発
(関西大環都工) ○(正)荒木 貞夫・ 中田 昌伸・ (正)山本 秀樹
OSN
silica membrane
hydrophobic
4-a666
J224液体分離用シリカ系膜の透過メカニズム
(芝浦工大院理) ○(学)池田 歩・ (学)石井 克典・ (学)竹内 淳登・ (芝浦工大) (学)杉本 千紘・ 吉田 真奈美・ 亀田 洋輔・ 吉浦 詢子・ (正)野村 幹弘
silica hybrid membrane
permeation mechanism
counter diffusion CVD method
4-a35
第 3 日
9:20～ 11:20		PD350イオン液体修飾シリカ膜のガス分離への応用
(阪大院基工) ○(学)中居 拓斗・ (阪大基工) (学)速水 翔平・ (阪大院基工) (学)山本 祐介・ (正)廣田 雄一朗・ (イーセップ) (正)澤村 健一・ (阪大院基工) (正)西山 憲和
organosilica membrane
ionic liquid
gas separation
4-a317

講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)  (同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会 第83年会

(C) 2023 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
For more information contact 化学工学会 第83年会 実行委員会
E-mail: inquiry-83awww3.scej.org