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化学工学会 第83年会

Last modified: 2018-02-27 10:00:00

講演プログラム検索結果 : 高濃度 : 6件

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
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講演題目 が『高濃度』を含む講演：6件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
13:20～ 15:20		PA171マイクロ波プラズマ支援燃焼による高濃度CO2含有低品位CH4の部分酸化改質
(九大院工) ○(学)内山 慎也・ (正)山本 剛・ (正)松根 英樹・ (正)岸田 昌浩
Microwave Plasma assisted combustion
Partial oxidation reforming
Low grade methane
9-e331
第 1 日
15:00～ 15:20		O119高濃度な単分散粒子分散液のShear-thickening挙動解析
(豊田中研) ○(正)中村 浩・ (法)石井 昌彦
Shear-thickening
Dispersion
Rheology
12-h469
第 2 日
9:20～ 11:20		PB231高濃度アミノ酸添加培地への耐性差による未分化ヒトiPSの選択的除去
(名大院工) ○(学)長島 拓則・ (正)清水 一憲・ 松本 凌・ (名大PME/名大院工) (正)本多 裕之
iPS Cells
Selective elimination
Osmotic pressure
7-c98
第 2 日
9:20～ 11:20		PB248DO-stat流加培養による組換え大腸菌を用いた単鎖抗体の高濃度菌体外生産
(京工繊大院工芸) ○(学)坂本 祐一朗・ (学)井嶋 浩一朗・ (学)李 歓・ (正)熊田 陽一・ (正)堀内 淳一
E.coli
Fed-batch
scFv
7-a548
第 3 日
10:40～ 11:00		K306SiC-CVIプロセスにおける高濃度原料供給条件下での製膜モデルの検討(2)
(東大院工) ○(学)中 智明・ (学)佐藤 登・ (学)舩門 佑一・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
CVI
SiC
5-h191
第 3 日
13:20～ 15:20		PE385低濃度高活性種と高濃度低活性種の複合原料によるカーボンナノチューブの大面積均一合成
(早大先進理工) ○(学·技基)佐藤 俊裕・ (早大高等研) (正)杉目 恒志・ (早大先進理工) (正)野田 優
carbon nanotubes
catalytic chemical vapor deposition
carbon source
5-h125

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