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化学工学会 第83年会

講演プログラム(会場・日程別) : K会場・第3日

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
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K 会場(2F 2208)第 3 日(3月15日(木))

5 反応工学

講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
5. 反応工学
オーガナイズドセッション(反応工学部会CVD反応分科会)
(9:00~10:20) (座長 百瀬 健河瀬 元明)
9:009:20K301気相浮遊コーティングプロセスによるポリマー被覆カーボンナノチューブの調製
(広大院工) ○(正)島田 学(学·技基)西原 啓太Hemanth L. R.(正)久保 優(広大院工/ITS Surabaya) (正)Kusdianto K
PECVD
polymerization reaction
dry coating process
5-h313
9:209:40K302ディーゼルエンジンを用いたカーボンナノチューブの合成機構および生成機構に関する研究
(東工大院理工) ○(学)鈴木 俊介(東工大物質理工) (正)森 伸介
carbon nanotube
diesel engine
growth mechanism
5-h432
9:4010:00K303活性化窒素気相/水相の相界面反応場における無触媒アンモニア合成
(九工大) ○(正)春山 哲也(学)酒倉 辰弥(学)上村 進太朗日野 睦章清松 将太郎高辻 義行村上 直也
Plasma
Ammonia
Non-catalytic
5-c538
10:0010:20K304熱CVD法による高Al組成fcc-TiAlN膜の合成
(東大院工) ○(学)佐藤 宏樹(東大工) 山口 潤(東大院工) 平原 智子(京セラ) (法)久保 隼人(東大院工) (正)出浦 桃子(正)百瀬 健(京セラ) (法)谷渕 栄仁(東大院工) (正)霜垣 幸浩
CVD
TiAlN
cutting tool
5-h639
(10:40~11:40) (座長 河瀬 元明百瀬 健)
10:4011:00K306SiC-CVIプロセスにおける高濃度原料供給条件下での製膜モデルの検討(2)
(東大院工) ○(学)中 智明(学)佐藤 登(学)舩門 佑一(IHI) (正)福島 康之(東大院工) (正)出浦 桃子(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
CVI
SiC
5-h191
11:0011:20K307CVIにおける繊維へのSiC含浸過程シミュレーション
(東大院工) ○(学)舩門 佑一(学)佐藤 登(学)中 智明(IHI基盤研) (正)福島 康之(東大院工) (正)出浦 桃子(正)百瀬 健(正)霜垣 幸浩
SiC
CVI
Multiscale
5-h502
11:2011:40[分科会奨励賞] CVD反応分科会奨励賞受賞式
(13:00~14:20) (座長 島田 学大久保 尚人)
13:0013:20K313Superfine particles を用いた流動層内気固挙動に関する基礎検討
(鹿大院工) ○(正)五島 崇(学)島崎 幸也(正)水田 敬(正)二井 晋
Superfine particles
Fluidized bed
Geldart C particles
5-e409
13:2013:40K314二重円筒型反応器を用いたメタノール水溶液改質反応
(電機大工) ○(正)小林 大祐萩原 満之(佐渡精密) 坂下 弘将(新エネ研) 小林 新斉藤 泰和(東理大工) (正)庄野 厚
Aqueous methanol
Scale-up
Superheated liquid-film
5-e657
13:4014:00K315マイクロリアクタを用いたエステル化反応のメカニズム検討
(日立研開) ○(正)浅野 由花子(正)富樫 盛典
Microreactor
Esterification
Reaction Mechanism
5-f10
14:0014:20K316マイクロ流路における気液吸収の研究
(神戸製鋼所) ○(法)緒方 健人(正)藤澤 彰利(正)松岡 亮(正)野一色 公二
gas-liquid
absorption
microchannel
5-f728

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