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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

Last modified: 2017-02-20 10:00:00

講演プログラム検索結果 : 13-i : 6件

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分類番号 が『13-i』から始まる講演：6件該当しました。
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講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
14:00～ 14:20		L116製造工場環境における有機ケイ素化合物除去のためのゼオライト系吸着剤
(成蹊大理工) ○(正)里川 重夫・ 沖住 彩香・ 霜田 直宏・ (ニッタ) 入江 雄太・ 茂田 誠・ 近藤 雅也・ 永田 雅彦
Organosilicon compound
adsorptive removal
zeolite
13-i397
第 2 日
9:20～ 11:20		PB279植物繊維を用いたバイオフィルターによるアンモニアガス分解処理
(名城大理工) ○(学)李 保晏・ (正)酒巻 史郎
ammonium gas
biofilter
bacteria
13-i113
第 2 日
9:20～ 11:20		PB280単結晶を用いた水酸化カルシウムと塩化水素との反応に関する基礎的検討
(東北大院環境) ○(学)森下 祐摩・ (東北大多元研) (正)飯塚 淳・ 柴田 悦郎・ (荏原製作所) 高東 智佳子・ (荏原環境プラント) (法)森澤 伸哉・ (法)長 洋光
calcium hydroxide
single crystal
hydrogen chloride
13-i588
第 2 日
13:00～ 13:20		L213高圧噴流による土壌洗浄システムを用いた溜池除染
(AZMEC) ○(正)正田 武則・ (グリーンディール推進協会) (正)志方 洋介・ (早大) (正)松方 正彦・ (正)山﨑 淳司
decontamination
soil cleaning systems
13-i330
第 2 日
13:20～ 13:40		L214イオン半導体由来の抗酸化作用あるいは流体特性変化作用を基盤とする環境負荷低減効果に関する研究
(都立産技高専品川) ○(正)田村 健治・ (イオン化学) 苅野 仁
the Ionic Semiconductor
antioxidative effect
fluid properties change action
13-i227
第 2 日
16:00～ 16:20		L222高精度流体制御法による安定化次亜塩素酸水製造装置の新規開発の検討
(都立産技高専品川) ○(正)田村 健治・ (エナ) 阿久津 東眞
the Aqueous of Stabilization Hypochlorous Acid
pasteurization effect
deodorization effect
13-i352

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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

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