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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

講演プログラム一覧表 (縦配置)

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第 1 日 (3月6日(月)) | 第 2 日 (3月7日(火)) | 第 3 日 (3月8日(水))

会場 第 1 日 (3月6日(月))
午前午後
A教室棟 3階 301 HC-12 [センター・委員会等企画]
化学工学会の見える化と化学コミュニケーション
A119-A124
15:00～17:00
B教室棟 3階 302 K-1 [国際シンポジウム]
プロセス強化に向けて：反応と分離システムのマルチスケールな統合化
B113-B125
13:00～17:20
C教室棟 3階 303 7 バイオ
C113-C123
13:00～16:40
D教室棟 3階 304
E教室棟 4階 404 12 材料・界面
E113-E124
13:00～17:00
F教室棟 4階 405
G教室棟 4階 406 5 反応工学
G113-G124
13:00～17:00
H教室棟 4階 407 2 粒子・流体プロセス
H113-H124
13:00～17:00
I教室棟 5階 502
J教室棟 5階 503
K教室棟 5階 504
L交流棟 4階 401 13 環境
L113-L123
13:00～16:40
M交流棟 4階 402
N交流棟 5階 501 4 分離プロセス ポスター表彰
N113-N122
13:00～16:20		 17:00～17:40
P交流棟 6階 ホワイエ PS-A ポスターセッションA 第1日 午後
(システム・情報・シミュレーション, 超臨界, エネルギー)		 ポスター表彰 (N会場)
PA101-PA183
13:20～15:20		 17:00～17:40
X教室棟 4階 403
Y教室棟 1階 ラウンジ
Z交流棟 6階 大講義室 開会式 0-a 化学工学会学会賞
9:00～10:40 Z106-Z108
10:40～12:00
交流棟 3階 カフェテリア
会場 第 2 日 (3月7日(火))
午前午後
A教室棟 3階 301 SS-1 [産業セッション]
日本の産業を支える技術イノベーション－１		 0-d 化学工学会技術賞 SS-3 [産業セッション]
開発型企業の産学官連携による成果報告－ものづくり日本の将来へむけた取り組み事例－
A201-A208
9:00～12:00		 A213-A215
13:05～13:50		 A216-A225
14:00～17:20
B教室棟 3階 302 12 材料・界面 SS-4 [産業セッション]
化学関連産業の経営課題－化学産業におけるAIを使った新たな挑戦－
B201-B209
9:00～12:00		 B216-B225
14:00～17:30
C教室棟 3階 303 12 材料・界面 7 バイオ
C201-C209
9:00～12:00		 C213-C224
13:00～17:00
D教室棟 3階 304 F-1 [化学産業技術フォーラム]
新規無機膜による分離技術イノベーション
D206-D221
10:40～16:20
E教室棟 4階 404 K-2 [国際シンポジウム]
CVDの反応工学：iCVDなどの新プロセス、応用展開と基礎的理解
E201-E225
9:00～17:20
F教室棟 4階 405 HC-11 [センター・委員会等企画]
福島原発事故復興の現状と復興促進への化学工学の貢献
F202-F223
9:20～16:40
G教室棟 4階 406 8 超臨界流体 5 反応工学
G201-G209
9:00～12:00		 G213-G223
13:00～16:40
H教室棟 4階 407 2 粒子・流体プロセス
H201-H224
9:00～17:00
I教室棟 5階 502 F-2 [化学産業技術フォーラム]
化学装置に用いる材料の保守と検査		 K-3 [国際シンポジウム]
グランドチャレンジ－エネルギー
I202-I208
9:20～11:40		 I219-I225
15:00～17:30
J教室棟 5階 503 6 システム・情報・シミュレーション
J205-J223
10:20～16:40
K教室棟 5階 504 HC-16 [センター・委員会等企画]
女性技術者フォーラム
K213-K222
13:00～16:40
L交流棟 4階 401 9 エネルギー 13 環境
L201-L209
9:00～12:00		 L213-L223
13:00～16:40
M交流棟 4階 402 3 熱工学
M218-M223
14:40～16:40
N交流棟 5階 501 4 分離プロセス ポスター表彰
N201-N223
9:00～16:40		 17:00～17:40
P交流棟 6階 ホワイエ PS-B ポスターセッションB 第2日 午前
(バイオ, 環境)		 PS-C ポスターセッションC 第2日 午後
(エレクトロニクス, 材料・界面, 広領域)		 ポスター表彰 (N会場)
PB201-PB285
9:20～11:20		 PC201-PC287
13:20～15:20		 17:00～17:40
X教室棟 4階 403 SS-7 [産業セッション]
外国人留学生を対象とした企業と学生との交流会
9:00～12:40
Y教室棟 1階 ラウンジ
Z交流棟 6階 大講義室
交流棟 3階 カフェテリア 懇親会
18:00～20:00
会場 第 3 日 (3月8日(水))
午前午後
A教室棟 3階 301 SS-2 [産業セッション]
日本の産業を支える技術イノベーション－２		 SS-6 [産業セッション]
忘れてはいけない単位操作－環境にやさしい分離プロセス（蒸留・吸着・膜分離）－
A301-A308
9:00～12:00		 A316-A320
14:00～16:00
B教室棟 3階 302 SS-5 [産業セッション]
安全確保の取り組みと現場力の維持向上
B303-B320
9:40～15:40
C教室棟 3階 303 7 バイオ
C301-C309
9:00～12:00
D教室棟 3階 304 1 基礎物性 14 広領域 1 基礎物性
D301-D309
D321-D324
9:00～12:00,
15:40～17:00		 D313-D315
13:00～14:00		 D301-D309
D321-D324
9:00～12:00,
15:40～17:00
E教室棟 4階 404 12 材料・界面
E301-E324
9:00～17:00
F教室棟 4階 405 12 材料・界面
F301-F309
9:00～12:00
G教室棟 4階 406 5 反応工学
G301-G309
9:00～12:00
H教室棟 4階 407 2 粒子・流体プロセス
H301-H309
H321-H323
9:00～12:00,
15:40～16:40		 H301-H309
H321-H323
9:00～12:00,
15:40～16:40
I教室棟 5階 502
J教室棟 5階 503
K教室棟 5階 504
L交流棟 4階 401 9 エネルギー
L301-L321
9:00～16:00
M交流棟 4階 402 HC-13 [センター・委員会等企画]
2016年度インターンシップ報告会		 HC-14 [センター・委員会等企画]
インターンシップ報告会企業交流会		 HC-15 [センター・委員会等企画]
「プロフェッショナルは語る」～技士（基礎）・技士・上席技士の集い～		 インターンシップ報告会・「プロフェッショナルは語る」 合同交流会 (カフェテリア)
M301-M310
10:00～11:50		 12:00～12:50 M313-M316
13:00～14:45		 15:00～16:30
N交流棟 5階 501 4 分離プロセス ポスター表彰
N313-N318
13:00～15:00		 17:00～17:40
P交流棟 6階 ホワイエ PS-D ポスターセッションD 第3日 午前
(熱工学, 分離プロセス)		 PS-E ポスターセッションE 第3日 午後
(基礎物性, 粒子・流体, 反応工学)		 ポスター表彰 (N会場)
PD301-PD378
9:20～11:20		 PE301-PE390
13:20～15:20		 17:00～17:40
X教室棟 4階 403 HQ-21 [本部・支部等企画]
【若手】若手研究者が考える未来の化学工学研究（ポスター）
X300-X320
13:00～16:00
Y教室棟 1階 ラウンジ SP-8 [産業セッション（ポスター）]
ポスターセッション／安全確保の取り組みと現場力の維持向上
SP-9 [産業セッション（ポスター）]
ポスターセッション／忘れてはいけない単位操作－環境にやさしい分離プロセス（蒸留・吸着・膜分離）－
Y351-Y372
Y381-Y393
16:00～17:20
Z交流棟 6階 大講義室
交流棟 3階 カフェテリア インターンシップ報告会・「プロフェッショナルは語る」 合同交流会
15:00～16:30

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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

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