English page
SCEJ

化学工学会 第82年会 (東京 2017)

講演プログラム一覧表 (縦配置)

講演要旨は講演番号からリンクしています。(要要旨閲覧ID/PW) 詳細

第 1 日 (3月6日(月)) | 第 2 日 (3月7日(火)) | 第 3 日 (3月8日(水))

会場 第 1 日 (3月6日(月))
午前午後
A教室棟 3階 301 HC-12 [センター・委員会等企画]
化学工学会の見える化と化学コミュニケーション
A119-A124
15:00~17:00
B教室棟 3階 302 K-1 [国際シンポジウム]
プロセス強化に向けて:反応と分離システムのマルチスケールな統合化
B113-B125
13:00~17:20
C教室棟 3階 303 7 バイオ
C113-C123
13:00~16:40
D教室棟 3階 304
E教室棟 4階 404 12 材料・界面
E113-E124
13:00~17:00
F教室棟 4階 405
G教室棟 4階 406 5 反応工学
G113-G124
13:00~17:00
H教室棟 4階 407 2 粒子・流体プロセス
H113-H124
13:00~17:00
I教室棟 5階 502
J教室棟 5階 503
K教室棟 5階 504
L交流棟 4階 401 13 環境
L113-L123
13:00~16:40
M交流棟 4階 402
N交流棟 5階 501 4 分離プロセス ポスター表彰
N113-N122
13:00~16:20
17:00~17:40
P交流棟 6階 ホワイエ PS-A ポスターセッションA 第1日 午後
(システム・情報・シミュレーション, 超臨界, エネルギー)
ポスター表彰 (N会場)
PA101-PA183
13:20~15:20
17:00~17:40
X教室棟 4階 403
Y教室棟 1階 ラウンジ
Z交流棟 6階 大講義室 開会式 0-a 化学工学会学会賞
9:00~10:40 Z106-Z108
10:40~12:00
交流棟 3階 カフェテリア
会場 第 2 日 (3月7日(火))
午前午後
A教室棟 3階 301 SS-1 [産業セッション]
日本の産業を支える技術イノベーション-1
0-d 化学工学会技術賞 SS-3 [産業セッション]
開発型企業の産学官連携による成果報告-ものづくり日本の将来へむけた取り組み事例-
A201-A208
9:00~12:00
A213-A215
13:05~13:50
A216-A225
14:00~17:20
B教室棟 3階 302 12 材料・界面 SS-4 [産業セッション]
化学関連産業の経営課題-化学産業におけるAIを使った新たな挑戦-
B201-B209
9:00~12:00
B216-B225
14:00~17:30
C教室棟 3階 303 12 材料・界面 7 バイオ
C201-C209
9:00~12:00
C213-C224
13:00~17:00
D教室棟 3階 304 F-1 [化学産業技術フォーラム]
新規無機膜による分離技術イノベーション
D206-D221
10:40~16:20
E教室棟 4階 404 K-2 [国際シンポジウム]
CVDの反応工学:iCVDなどの新プロセス、応用展開と基礎的理解
E201-E225
9:00~17:20
F教室棟 4階 405 HC-11 [センター・委員会等企画]
福島原発事故復興の現状と復興促進への化学工学の貢献
F202-F223
9:20~16:40
G教室棟 4階 406 8 超臨界流体 5 反応工学
G201-G209
9:00~12:00
G213-G223
13:00~16:40
H教室棟 4階 407 2 粒子・流体プロセス
H201-H224
9:00~17:00
I教室棟 5階 502 F-2 [化学産業技術フォーラム]
化学装置に用いる材料の保守と検査
K-3 [国際シンポジウム]
グランドチャレンジ-エネルギー
I202-I208
9:20~11:40
I219-I225
15:00~17:30
J教室棟 5階 503 6 システム・情報・シミュレーション
J205-J223
10:20~16:40
K教室棟 5階 504 HC-16 [センター・委員会等企画]
女性技術者フォーラム
K213-K222
13:00~16:40
L交流棟 4階 401 9 エネルギー 13 環境
L201-L209
9:00~12:00
L213-L223
13:00~16:40
M交流棟 4階 402 3 熱工学
M218-M223
14:40~16:40
N交流棟 5階 501 4 分離プロセス ポスター表彰
N201-N223
9:00~16:40
17:00~17:40
P交流棟 6階 ホワイエ PS-B ポスターセッションB 第2日 午前
(バイオ, 環境)
PS-C ポスターセッションC 第2日 午後
(エレクトロニクス, 材料・界面, 広領域)
ポスター表彰 (N会場)
PB201-PB285
9:20~11:20
PC201-PC287
13:20~15:20
17:00~17:40
X教室棟 4階 403 SS-7 [産業セッション]
外国人留学生を対象とした企業と学生との交流会
9:00~12:40
Y教室棟 1階 ラウンジ
Z交流棟 6階 大講義室
交流棟 3階 カフェテリア 懇親会
18:00~20:00
会場 第 3 日 (3月8日(水))
午前午後
A教室棟 3階 301 SS-2 [産業セッション]
日本の産業を支える技術イノベーション-2
SS-6 [産業セッション]
忘れてはいけない単位操作-環境にやさしい分離プロセス(蒸留・吸着・膜分離)-
A301-A308
9:00~12:00
A316-A320
14:00~16:00
B教室棟 3階 302 SS-5 [産業セッション]
安全確保の取り組みと現場力の維持向上
B303-B320
9:40~15:40
C教室棟 3階 303 7 バイオ
C301-C309
9:00~12:00
D教室棟 3階 304 1 基礎物性 14 広領域 1 基礎物性
D301-D309
D321-D324
9:00~12:00,
15:40~17:00
D313-D315
13:00~14:00
D301-D309
D321-D324
9:00~12:00,
15:40~17:00
E教室棟 4階 404 12 材料・界面
E301-E324
9:00~17:00
F教室棟 4階 405 12 材料・界面
F301-F309
9:00~12:00
G教室棟 4階 406 5 反応工学
G301-G309
9:00~12:00
H教室棟 4階 407 2 粒子・流体プロセス
H301-H309
H321-H323
9:00~12:00,
15:40~16:40
H301-H309
H321-H323
9:00~12:00,
15:40~16:40
I教室棟 5階 502
J教室棟 5階 503
K教室棟 5階 504
L交流棟 4階 401 9 エネルギー
L301-L321
9:00~16:00
M交流棟 4階 402 HC-13 [センター・委員会等企画]
2016年度インターンシップ報告会
HC-14 [センター・委員会等企画]
インターンシップ報告会企業交流会
HC-15 [センター・委員会等企画]
「プロフェッショナルは語る」~技士(基礎)・技士・上席技士の集い~
インターンシップ報告会・「プロフェッショナルは語る」 合同交流会 (カフェテリア)
M301-M310
10:00~11:50
12:00~12:50 M313-M316
13:00~14:45
15:00~16:30
N交流棟 5階 501 4 分離プロセス ポスター表彰
N313-N318
13:00~15:00
17:00~17:40
P交流棟 6階 ホワイエ PS-D ポスターセッションD 第3日 午前
(熱工学, 分離プロセス)
PS-E ポスターセッションE 第3日 午後
(基礎物性, 粒子・流体, 反応工学)
ポスター表彰 (N会場)
PD301-PD378
9:20~11:20
PE301-PE390
13:20~15:20
17:00~17:40
X教室棟 4階 403 HQ-21 [本部・支部等企画]
【若手】若手研究者が考える未来の化学工学研究(ポスター)
X300-X320
13:00~16:00
Y教室棟 1階 ラウンジ SP-8 [産業セッション(ポスター)]
ポスターセッション/安全確保の取り組みと現場力の維持向上

SP-9 [産業セッション(ポスター)]
ポスターセッション/忘れてはいけない単位操作-環境にやさしい分離プロセス(蒸留・吸着・膜分離)-
Y351-Y372
Y381-Y393
16:00~17:20
Z交流棟 6階 大講義室
交流棟 3階 カフェテリア インターンシップ報告会・「プロフェッショナルは語る」 合同交流会
15:00~16:30

講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)  (同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会 第82年会 (東京 2017)


(C) 2017 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
For more information contact 化学工学会本部大会運営委員会 第82年会 問い合せ係
E-mail: inquiry-82awww3.scej.org