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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

基調講演・招待講演・展望講演・依頼講演一覧

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基調講演 | 招待講演 | 展望講演 | 依頼講演

基調講演

第 2 日(3月7日(火))B 会場(教室棟 3階 302)
B216 「生活・サービスにおける次世代人工知能技術」 (14:00~ 14:50)

(産総研) 本村 陽一 氏

招待講演

第 1 日(3月6日(月))A 会場(教室棟 3階 301)
A119 「化学連合のアウトリーチ活動」 (15:00~ 15:20)

(日本化学連合/工学院大) 中尾 真一 氏
A120 「人材育成センター 未来人材育成委員会活動紹介」 (15:20~ 15:40)

(横国大工) 上ノ山 周 氏
A121 「触媒技術の一般向け実験展示活動」 (15:40~ 16:00)

(千葉大) 原 孝佳 氏
A122 「身近な日用品を通じての「化学」教育支援活動」 (16:00~ 16:20)

(ライオン) 土岐 育子 氏
A123 「化学情報C伝達・啓発のためのウェブシステムの構築 化学ポータルサイトChem-Station」 (16:20~ 16:40)

(早大先進理工) 山口 潤一郎 氏
第 1 日(3月6日(月))B 会場(教室棟 3階 302)
B114 「How do nano/micro structure technologies contribute to connect material science with device development beyond the "black-box"? ~Challenges and future visions~」 (13:10~ 13:40)

(Kyoto U.) Inoue Gen 氏
B115 「Electrokinetic Ion, Fluid, and Nanoparticle Transport in Nanofluidics: Experiments and Fundamental Understanding」 (13:40~ 14:10)

(Nat. Yunlin U. Sci. Tech.) Yeh Li-Hsien 氏
B116 「Heterostructure Nanocrystal Quantum Dots as Light Emitters」 (14:10~ 14:40)

(KAIST) Lee Doh Chang 氏
B120 「Thin film deposition using chemical reaction in supercritical fluid for high-aspect-ratio 3-dimensional features」 (15:30~ 16:00)

(U. Tokyo) Momose Takeshi 氏
B122 「Catalytic membrane reactors for efficient hydrogen production from hydrogen carriers」 (16:00~ 16:30)

(South China U. Tech.) Li Gang 氏
B123 「Development of an efficient micro chemical process for the production of functional acrylate monomers」 (16:30~ 17:00)

(Mitsubishi Rayon) Yasukawa Toshiya 氏
第 2 日(3月7日(火))D 会場(教室棟 3階 304)
D208 「化学品製造分野の膜分離技術の動向」 (11:20~ 11:40)

(NEDO) 石田 勝昭 氏
D221 「人工光合成PJの概要と水素分離膜の進捗状況」 (15:40~ 16:20)

(三菱化学) 武脇 隆彦 氏
第 2 日(3月7日(火))E 会場(教室棟 4階 404)
E201 「Analysis and Design of CVD/ALD processes Based on Chemical Reaction Engineering」 (9:00~ 9:40)

(U. Tokyo) Shimogaki Yukihiro 氏
E203 「Cat-CVD and Its Development to Various Fields」 (9:40~ 10:20)

(JAIST) Matsumura Hideki 氏
E215 「Application of Cat-CVD technology to crystalline silicon solar cells」 (13:40~ 14:20)

(JAIST) *Ohdaira Keisuke 氏, Trinh Cham Thi 氏, Oikawa Takafumi 氏, Seto Junichi 氏, Koyama Koichi 氏, Matsumura Hideki 氏
第 2 日(3月7日(火))F 会場(教室棟 4階 405)
F203 「福島の環境回復に向けた取組みの現状と課題」 (9:40~ 10:20)

(国環研) 大迫 政浩 氏
F206 「除染のあとに必要なこと」 (10:40~ 11:20)

(福島大共生システム理工学類) 佐藤 理夫 氏
F208 「東北大学の取組紹介」 (11:20~ 12:00)

(東北大) 新堀 雄一 氏
F213 「福島第一原子力発電所の廃炉の状況について」 (13:00~ 14:00)

(東京電力) 白木 洋也 氏
F216 「IRIDにおける燃料デブリ取り出し技術の開発状況」 (14:00~ 14:40)

(国際廃炉研究開発機構) 高守 謙朗 氏
F219 「原子力機構における福島県の環境回復に関する取り組み」 (15:00~ 15:40)

(原子力機構) 飯島 和毅 氏
F221 「福島原発事故に対するシニアエンジニアの取り組み」 (15:40~ 16:20)

(SCE・Net) 横堀 仁 氏
第 2 日(3月7日(火))I 会場(教室棟 5階 502)
I204 「超音波法を用いたライニング剥離検査技術による劣化診断」 (10:00~ 10:20)

(非破壊検査) ○田中 隆介 氏松原 重行 氏森 雅司 氏
I206 「樹脂エンジニアリングデータバンク紹介」 (10:40~ 11:00)

((一社)樹脂ライニング工業会) 神沢 泰弘 氏
I219 「Role of Chemical Engineers in solving global energy issues」 (15:00~ 15:30)

(TOTAL) Tanguy Philippe A. 氏
I220 「Li-S battery - challenges and opportunities for energy storage」 (15:30~ 16:00)

(USTHK) Chen Guohua 氏
I222 「An untapped sustainable energy source: biodiesel from sewage sludge」 (16:00~ 16:30)

(U. Puerto Rico) Estevez Antonio 氏
I223 「Prospects of Chemical Industry in Carbon Recycling Society」 (16:30~ 16:50)

(Waseda U.) Matsukata Masahiko 氏
I224 「Carbon Neutral/Negative Coproduction of Power and Storable Carbon Resource from Fossils and Biomass」 (16:50~ 17:10)

(Kyushu U.) *Hayashi Jun-ichiro 氏, (Kyoto U.) Mae Kazuhiro 氏
第 2 日(3月7日(火))K 会場(教室棟 5階 504)
K215 「高エネルギー密度革新型蓄電池用電極材料の開発」 (13:40~ 14:20)

(産総研) 栄部 比夏里 氏
K218 「化学反応を利用した熱エネルギー有効利用技術と社会実装に向けた課題」 (14:40~ 15:20)

(ファンクショナル・フルイッド) 藤岡 惠子 氏
第 3 日(3月8日(水))M 会場(交流棟 4階 402)
M314 「生産技術研究における化学工学の実践 ~ミキシング技術開発を例に~」 (13:15~ 13:45)

(カネカ) 神田 彰久 氏
M315 「『化学工学』の貢献 ~その実学としての素晴らしさ~」 (13:45~ 14:15)

(テックプロジェクトサービス) 濱村 光利 氏
M316 「企業における研究開発 ~メタノールエコノミー・一考察~」 (14:15~ 14:45)

(三菱ガス化学) 設楽 琢治 氏

展望講演

第 2 日(3月7日(火))D 会場(教室棟 3階 304)
D206 「NEDOエネルギー・環境新技術先導プログラムにおけるガス分離膜技術の進展」 (10:40~ 11:20)

(早大) 松方 正彦 氏

依頼講演

第 2 日(3月7日(火))D 会場(教室棟 3階 304)
D209 「膜分離プロセスを用いたプロピレン/プロパン分離の省エネルギー性評価」 (11:40~ 12:00)

(日揮) ○小黒 秀一 氏福田 晃子 氏湯浅 敦 氏藤村 靖 氏
D213 「エチレン・プロピレン分離用ゼオライト膜の開発」 (13:00~ 13:20)

(早大先進理工) ○酒井 求 氏安田 訓之 氏(早大先進理工/早大理工研) 松方 正彦 氏
D214 「対向拡散CVD法によるシリカ系膜の水素/炭化水素分離」 (13:20~ 13:40)

(芝浦工大工) ○野村 幹弘 氏石井 克典 氏吉田 真奈美 氏
D215 「橋架けアルコキシドによるオルガノシリカ膜の細孔構造制御と炭化水素透過特性」 (13:40~ 14:00)

(広大院工) ○金指 正言 氏米田 悠里 氏長澤 寛規 氏都留 稔了 氏
D216 「膜分離と蒸留のハイブリッド化によるプロピレン-プロパン分離の省エネルギー化」 (14:00~ 14:20)

(産総研) ○山木 雄大 氏吉宗 美紀 氏原 伸生 氏根岸 秀之 氏遠藤 明 氏(山形大院理工) 鈴木 健太 氏松田 圭悟 氏
D218 「選択的ガス吸着特性を示す多孔性金属錯体(MOF)の空間設計」 (14:40~ 15:00)

(名大院工) ○松田 亮太郎 氏堀 彰宏 氏
D219 「炭化水素分離に向けたMOF膜の開発」 (15:00~ 15:20)

(産総研) ○原 伸生 氏吉宗 美紀 氏山木 雄大 氏長谷川 泰久 氏根岸 秀之 氏
D220 「中空糸炭素膜による水素/低級炭化水素分離」 (15:20~ 15:40)

(産総研) ○吉宗 美紀 氏原 伸生 氏山木 雄大 氏根岸 秀之 氏
第 2 日(3月7日(火))E 会場(教室棟 4階 404)
E205 「Reaction Mechanism and Growth-rate Distribution in Metal-Organic Vapor-Phase Epitaxy of GaN」 (10:20~ 10:40)

(U. Tokyo) *Sugiyama Masakazu 氏, Momose Takeshi 氏, (Politecnico Di Milano) Ravasio Stefano 氏, Cavallotti Carlo 氏, (U. Tokyo) Shimogaki Yukihiro 氏
E206 「Plasma decomposition of hexamethyldisiloxane, oxygen, and ammonia for coating a polymer substrate with silica-based film」 (10:40~ 11:00)

(Kyoto U.) Kawase M. 氏
E207 「B-atom release from metal wires boronized by non-explosive boron compounds」 (11:00~ 11:20)

(Shizuoka U.) Umemoto Hironobu 氏
E208 「Surface reaction design for silicon epitaxial growth based on the reactor simulation」 (11:20~ 11:40)

(Yokohama Nat. U.) *Habuka Hitoshi 氏, Watanabe Toru 氏, Yamada Ayami 氏, Saito Ayumi 氏, Sakurai Ayumi 氏
E209 「CVD and ALD precursor candidates for transition metal film deposition」 (11:40~ 12:00)

(Gas-Phase Growth) Machida Hideaki 氏
E217 「Synthesis of carbon nitride using microwave plasma CVD」 (14:20~ 14:40)

(Gifu U.) *Tanaka Ippei 氏, (Chiba Inst. Tech.) Sakamoto Yukihiro 氏
E218 「PEALD-TiO2 films synthesized via CCRF discharges」 (14:40~ 15:00)

(Tokyo Electron Yamanashi) Iwashita Shinya 氏
E219 「Surface coating of carbon nanotubes by aerosol process with plasma enhanced chemical vapor deposition」 (15:00~ 15:20)

(Hiroshima U.) *Shimada Manabu 氏, Kubo Masaru 氏, (Hiroshima U./ITS Surabaya) Kusdianto K. 氏
E221 「Novel catalytic property of structured catalyst prepared by wet-type chemical deposition」 (15:40~ 16:00)

(Shizuoka U.) Fukuhara Choji 氏
E222 「Thin film deposition in supercritical fluids - impact of solvent capability on deposition characteristics」 (16:00~ 16:20)

(U. Yamanashi) Kondoh Eiichi 氏
E223 「Hot-filament CVD growth of low-resistivity diamond for power device applications」 (16:20~ 16:40)

(AIST) Ohmagari Shinya 氏
E224 「Effects of N2O Addition during the Growth of ZnO Films by Chemical Vapor Deposition Using a Catalytic Reaction」 (16:40~ 17:00)

(Nagaoka U. Tech.) Tajima Ryouichi 氏, Watanabe Koudai 氏, Ono Shotarou 氏, Kato Takahiro 氏, *Yasui Kanji 氏
E225 「Engineering Carbon Nanotube Synthesis: Catalyst Screening, Identification of Reactive Species, and Rational Reactor Design」 (17:00~ 17:20)

(Waseda U.) Noda Suguru 氏
第 2 日(3月7日(火))I 会場(教室棟 5階 502)
I202 「腐食環境で用いる有機材料劣化の破壊検査・非破壊検査」 (9:20~ 9:40)

(東工大) ○久保内 昌敏 氏荒尾 与史彦 氏(日大生産工) 酒井 哲也 氏
I203 「プラント建設プロジェクトにおける有機材料と試験・検査」 (9:40~ 10:00)

(日揮) 宮下 隼基 氏
I207 「ふっ素樹脂ライナーの透過試験(塩酸透過量測定)」 (11:00~ 11:20)

(ニチアス) 倉本 順之 氏
I208 「高温配管としてのAlloy 800H材の保全」 (11:20~ 11:40)

(千代田化工建設) 柴崎 敏和 氏○渡邉 俊二 氏外村 隆志 氏
第 2 日(3月7日(火))K 会場(教室棟 5階 504)
K220 「水素精製・貯蔵システムのための水素吸蔵合金の高性能化」 (15:20~ 15:40)

(筑波大) 花田 信子 氏
K221 「木材構成成分の分離回収と有効利用」 (15:40~ 16:00)

(徳島大) 淺田 元子 氏
K222 「富士電機における燃料電池の開発状況について」 (16:00~ 16:40)

(富士電機) 田岸 未来子 氏

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