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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

Last modified: 2017-02-20 10:00:00

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講演プログラム一覧表 (第 2 日)

会場 第 2 日 (3月7日(火))
午前午後
A教室棟 3階 301 SS-1 [産業セッション]
日本の産業を支える技術イノベーション－１		 0-d 化学工学会技術賞 SS-3 [産業セッション]
開発型企業の産学官連携による成果報告－ものづくり日本の将来へむけた取り組み事例－
A201-A208
9:00～12:00		 A213-A215
13:05～13:50		 A216-A225
14:00～17:20
B教室棟 3階 302 12 材料・界面 SS-4 [産業セッション]
化学関連産業の経営課題－化学産業におけるAIを使った新たな挑戦－
B201-B209
9:00～12:00		 B216-B225
14:00～17:30
C教室棟 3階 303 12 材料・界面 7 バイオ
C201-C209
9:00～12:00		 C213-C224
13:00～17:00
D教室棟 3階 304 F-1 [化学産業技術フォーラム]
新規無機膜による分離技術イノベーション
D206-D221
10:40～16:20
E教室棟 4階 404 K-2 [国際シンポジウム]
CVDの反応工学：iCVDなどの新プロセス、応用展開と基礎的理解
E201-E225
9:00～17:20
F教室棟 4階 405 HC-11 [センター・委員会等企画]
福島原発事故復興の現状と復興促進への化学工学の貢献
F202-F223
9:20～16:40
G教室棟 4階 406 8 超臨界流体 5 反応工学
G201-G209
9:00～12:00		 G213-G223
13:00～16:40
H教室棟 4階 407 2 粒子・流体プロセス
H201-H224
9:00～17:00
I教室棟 5階 502 F-2 [化学産業技術フォーラム]
化学装置に用いる材料の保守と検査		 K-3 [国際シンポジウム]
グランドチャレンジ－エネルギー
I202-I208
9:20～11:40		 I219-I225
15:00～17:30
J教室棟 5階 503 6 システム・情報・シミュレーション
J205-J223
10:20～16:40
K教室棟 5階 504 HC-16 [センター・委員会等企画]
女性技術者フォーラム
K213-K222
13:00～16:40
L交流棟 4階 401 9 エネルギー 13 環境
L201-L209
9:00～12:00		 L213-L223
13:00～16:40
M交流棟 4階 402 3 熱工学
M218-M223
14:40～16:40
N交流棟 5階 501 4 分離プロセス ポスター表彰
N201-N223
9:00～16:40		 17:00～17:40
P交流棟 6階 ホワイエ PS-B ポスターセッションB 第2日 午前
(バイオ, 環境)		 PS-C ポスターセッションC 第2日 午後
(エレクトロニクス, 材料・界面, 広領域)		 ポスター表彰 (N会場)
PB201-PB285
9:20～11:20		 PC201-PC287
13:20～15:20		 17:00～17:40
X教室棟 4階 403 SS-7 [産業セッション]
外国人留学生を対象とした企業と学生との交流会
9:00～12:40
Y教室棟 1階 ラウンジ
Z交流棟 6階 大講義室
交流棟 3階 カフェテリア 懇親会
18:00～20:00

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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

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