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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

Last modified: 2017-02-20 10:00:00

講演プログラム検索結果 : Itoh Naotsugu : 3件

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ローマ字氏名 が『Itoh Naotsugu』と一致する講演：2件該当しました。
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講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 3 日
9:40～ 10:00		G303CHAゼオライト膜によるエタノール脱水反応の促進
(宇都宮大院工) ○(正)伊藤 直次・ (学)菊池 修平・ (宇都宮大工) 廣瀬 拓也・ (宇都宮大院工) (正)佐藤 剛史
zeolite
ethanol dehydration
membrane reactor
5-d774
第 3 日
10:00～ 10:20		G304管壁型メンブレンリアクターによるアンモニアの低温分解
(宇都宮大院工) ○(正)伊藤 直次・ (学)加藤 崇文・ (宇都宮大工) (正)佐藤 剛史
wall-tube reactor
palladium membrane
ammonia
5-d776
第 3 日
10:20～ 12:00		   座長 村上 能規・伊藤 直次
G305ディーゼルエンジンにおけるカーボンナノチューブの合成に対する燃料種の影響と生成機構の考察
(東工大院理工) ○(学)鈴木 俊介・ (東工大物質理工) (正)森 伸介
Carbon nanotube
Diesel engine
Growth mechanism
5-h86
G306Fabrication of Ag-TiO2 nanocomposite films via one-step gas-phase deposition and their characterizations after heat treatment processes
(広大院工/ITS Surabaya) ○(正)Kusdianto K.・ (広大院工) Jiang Dianping・ (正)Kubo Masaru・ (正)Shimada Manabu
PECVD
PVD
photocatalytic activity
5-h243
G307銅箔上での大面積グラフェン合成に向けた化学エッチング条件の検討
(福岡大工) ○(正)吉原 直記・ (正)野田 賢
Graphene
CVD
Chemical etching
5-h476
G308SiC-CVIプロセスの合理設計による超均一含浸の実現および複合材料特性への影響
(東大院工) ○(学)嶋 紘平・ (学)佐藤 登・ (学)舩門 佑一・ (学)中 智明・ (IHI基盤研) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
CVD
SiC
CMC
5-h552
G309モノメチルトリクロロシランを用いたSiC-CVDプロセス最適化のための総括反応モデル構築 (4)
(東大院工) ○(学)舩門 佑一・ (学)嶋 紘平・ (学)佐藤 登・ (学)中 智明・ (正)福島 康之・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
Reaction model
CVD
5-h664

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