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化学工学会 第82年会 (東京 2017)

Last modified: 2017-02-20 10:00:00

講演プログラム検索結果 : Noda Masaru : 3件

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ローマ字氏名 が『Noda Masaru』と一致する講演:2件該当しました。
座長・司会氏名 が『Noda Masaru』と一致するセッション:1件該当しました。
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講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
第 2 日
10:4011:00
J206ドットマトリックス解析によるエチレンプラント運転データからの連鎖アラーム抽出
(福岡大工) ○(学)王 者興(正)野田 賢
Alarm System
Sequential Alarm
Ethylene Plant
6-a307
第 2 日
15:0016:40
   座長 野田 賢馬場 一嘉
J219製造機器間差の小さい製造パラメータを用いた造粒中水分含量モニタリング手法
(第一三共) ○(正)柳沼 啓太(法)宮野 拓也(正)中川 弘司(法)渡部 知行(法)南 秀実(京大) (正)加納 学
process parameter
water content monitoring
soft sensor
6-b25
J220医薬品・再生医療製品の製造におけるモデルベースト設計の役割
(東大院工) (正)杉山 弘和
Pharmaceuticals
Regenerative medicine
Process design
6-b339
J221Conceptual design and feasibility evaluation of a new pathway producing tetraethoxysilane from silica
(AIST) ○(正)Nguyen Thuy(正)片岡 祥深谷 訓久佐藤 一彦Choi Jun-Chul(正)遠藤 明
TEOS from silica
conceptual design
feasibility study
6-b600
J222Optimization of Industrial Processes - Some Case Studies
(Nat. Taiwan U.) Chen Cheng-Liang

6-e874
J223気液平衡条件の階段関数近似を用いた3成分蒸留プロセス構造合成手法における求解アルゴリズムの効率化
(京大院工) ○(学·技基)高瀬 洋志(MIT) Braatz R. D.(京大院工) (正)長谷部 伸治
Process Synthesis
Distillation
MILP
6-e378
第 3 日
11:0011:20
G307銅箔上での大面積グラフェン合成に向けた化学エッチング条件の検討
(福岡大工) ○(正)吉原 直記(正)野田 賢
Graphene
CVD
Chemical etching
5-h476

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