第 1 日 ・ I 会場 |
I109 | 「粒径の異なる2成分系コロイドの遠心沈降による固液分離特性」 (11:40~ 12:00) |
| (名大院工) ○(海)曹 達啓 氏・ (正)入谷 英司 氏・ (正)片桐 誠之 氏 |
I113 | 「SAPO-34膜のマイクロ波加熱合成における急速加熱効果」 (13:00~ 13:20) |
| (阪大院基工) ○(正)廣田 雄一朗 氏・ (元東工大) 田村 真吾 氏・ (東工大物質理工) (正)下山 裕介 氏・ (正)伊東 章 氏 |
第 1 日 ・ M 会場 |
M109 | 「エアロゾルナノ粒子堆積によって作製した多孔質TiO2薄膜の形態と空隙率に焼成が与える影響」 (11:40~ 12:00) |
| (広大院工) ○(正)久保 優 氏・ 萬谷 勇樹 氏・ (正)島田 学 氏 |
第 1 日 ・ X 会場 |
X113 | 「Effect of Aperture Structure of Dutch Weave Mesh on Flow Resistivity」 (13:00~ 13:20) |
| (関西金網) ○(正)吉田 友一 氏・ (電通大) (正)井上 洋平 氏・ (同志社大) (正)下坂 厚子 氏・ (正)白川 善幸 氏・ (正)日高 重助 氏 |
第 2 日 ・ N 会場 |
N213 | 「内部熱交換型蒸留塔の最適構造合成」 (13:00~ 13:20) |
| (京大院工) ○(学·技基)高瀬 洋志 氏・ (正)長谷部 伸治 氏 |
第 2 日 ・ T 会場 |
T206 | 「Effects of Solution Concentrations on Crystal Growth of Anthracene Thin Films on Silicon by Rapid Expansion of Supercritical Solutions (RESS) Using Carbon Dioxide」 (10:40~ 11:00) |
| (信州大院総工) (学)藤井 竜也 氏・ (信州大院理工) (学)高橋 佑汰 氏・ (信州大工) ○(正)内田 博久 氏 |
第 2 日 ・ X 会場 |
X213 | 「湿潤褐炭粒子の蒸気流動層における乾燥特性」 (13:00~ 13:20) |
| (三菱重工業) ○(正)有馬 謙一 氏・ (正)土山 佳彦 氏・ (法)鈴木 武志 氏・ (法)澤津橋 徹哉 氏・ (法)垣上 英正 氏・ (法)木下 正昭 氏・ (法)石井 弘実 氏 |
第 3 日 ・ W 会場 |
W301 | 「流体混合における新しいパターン動力学」 (9:00~ 9:20) |
| (元阪大) (正)井上 義朗 氏 |