講演 時刻 | 講演 番号 | 講演題目/発表者 | キーワード | 分類 番号 | 受理 番号 |
N 会場 ・ 第 1 日 |
SY-82 【エレクトロニクス部会シンポジウム】 エレクトロニクス材料とプロセス |
(11:00~11:20) (司会 近藤 和夫) |
11:00~ 11:20 | N107 | Detection of cuprous ions by micro ring electrodes on a TSV side wall
| Cuprous detection micro electrode TSV
| SY-82 | 588 |
(11:20~12:00) (司会 折田 伸昭) |
11:20~ 12:00 | N108 | [招待講演] 電解槽の電流分布解析技術の進展
| electrolytic cell current distribution analysis calculation
| SY-82 | 650 |
(13:00~13:20) (司会 近藤 和夫) |
13:00~ 13:20 | N113 | マイクロコンタクト印刷法による核剤インクの印刷とめっきによる微細導体パターンの作製
| printed electronics micro-contact printing electrodeposition
| SY-82 | 101 |
(13:20~14:20) (座長 所 和彦) |
13:20~ 13:40 | N114 | 磁気センサーおよび磁気コンパス向けNiFe電解めっき膜
| NiFe electroplating magnetic sensor
| SY-82 | 926 |
13:40~ 14:00 | N115 | パターン付きウェハーへのめっきの最先端解析
| Electroplating Patterned wafer Numerical analysis
| SY-82 | 1 |
14:00~ 14:20 | N116 | 高速銅めっき膜のφ12インチウェハ用電解めっき装置での成膜
| High speed Cu plating electrodeposition electrolytic plating apparatus
| SY-82 | 993 |
(14:40~15:20) (司会 折田 伸昭) |
14:40~ 15:20 | N118 | [招待講演] IoT時代における半導体パッケージ技術の進展
| IoT Semiconductor Package 3D
| SY-82 | 776 |
(15:20~16:40) (座長 武野 泰彦) |
15:20~ 16:00 | N120 | [招待講演] 超高純度めっきによるナノ構造制御超低抵抗率Cu配線
| Nano-level Cu Wire High Purity Electrolyte Microstructure Analysis
| SY-82 | 679 |
16:00~ 16:40 | N122 | [招待講演] Determination of reaction rate constants of copper electrodeposition on a rotating disk electrode and using for simulation of the cuprous concentration inside TSVs
| Copper electrodeposition TSV filling cuprous
| SY-82 | 585 |
N 会場 ・ 第 2 日 |
SY-70 【システム・情報・シミュレーション部会シンポジウム】 (3) プロセスシステム工学の最近の進歩 |
(9:00~10:40) (座長 金子 弘昌・大寳 茂樹) |
9:00~ 9:20 | N201 | 不確実性を有する生産システムのプロセス完了時刻改善問題とその解法
| improvement of process completion time critical path system with uncertainty
| SY-70 | 817 |
9:20~ 9:40 | N202 | アクティビティが全体納期を押している度合いを計算で求める方法について
| Scheduling management DRAG Float
| SY-70 | 608 |
9:40~ 10:00 | N203 | 反応と分離を含む製造プロセスにおけるマルチプロダクトとマルチタスクの比較評価
| Process modeling multi-task manufacturing reaction-separation systems
| SY-70 | 617 |
10:00~ 10:20 | N204 | 廃熱利用型メチルシクロヘキサン脱水素反応システム
| Hydrogen energy Methylcyclohexane Process integration
| SY-70 | 812 |
10:20~ 10:40 | N205 | ヒートバランス解析の効率化とプラント性能劣化監視の為の新しい指標と手法
| enthalpy heat balance performance monitoring
| SY-70 | 26 |
(10:40~12:00) (座長 橋本 芳宏・川鍋 健志) |
10:40~ 11:00 | N206 | 流動層乾燥プロセスにおける水分量のリアルタイムモニタリング
| Fluidized Bed Drying Near-Infrared Spectroscopy Moisture
| SY-70 | 503 |
11:00~ 11:20 | N207 | 擬似移動層式クロマトグラフィー分離プロセスにおける糖成分のリアルタイムモニタリング
| Near-Infrared Spectroscopy Simulated Moving-Bed Chromatography
| SY-70 | 508 |
11:20~ 11:40 | N208 | 適応型ソフトセンサーおよび推定値の平滑化を実現するソフトセンサーツールの開発
| soft sensor offline analysis online analysis
| SY-70 | 13 |
11:40~ 12:00 | N209 | 異常継続時間に基づく時系列クラスタリングによる異常状態遷移の可視化
| Clustering Fault localization Invariant networks
| SY-70 | 417 |
(13:00~14:40) (座長 柘植 義文・樋口 文孝) |
13:00~ 13:20 | N213 | [優秀論文賞] 内部熱交換型蒸留塔の最適構造合成
| Process Synthesis Energy Saving Linear Formulation
| SY-70 | 71 |
13:20~ 13:40 | N214 | CZ法を利用した300 mmシリコン単結晶製造プロセスのグレイボックスモデリング
| Czochralski process Single-crystal silicon Gray-box model
| SY-70 | 241 |
13:40~ 14:00 | N215 | 類似度に基づくシリコンウェーハの平坦度調整
| silicon wafer flatness similarity
| SY-70 | 346 |
14:00~ 14:20 | N216 | 変数除去寄与による異常要因同定:酢酸ビニル製造プラントへの適用
| fault identification multivariate statistical process control kernel principal component analysis
| SY-70 | 592 |
14:20~ 14:40 | N217 | 酢酸ビニル製造プラントへの2自由度E-FRITの適用
| two-degree-of-freedom PID control system extended fictitious reference iterative tuning data-driven controller tuning
| SY-70 | 594 |
(14:40~16:00) (座長 山下 善之・水田 匡彦) |
14:40~ 15:00 | N218 | 並列マイクロリアクタの閉塞診断のための流体分配・収集装置設計とセンサ配置
| Microreactor blockage diagnosis Flow distributor design Sensor location
| SY-70 | 807 |
15:00~ 15:20 | N219 | 医薬品製造における過酸化水素を用いた除染プロセスのモデル構築
| Process design Sterile drug product manufacturing Isolator
| SY-70 | 174 |
15:20~ 15:40 | N220 | Process performance assessment based on stochastic simulation in sterile drug product manufacturing
| Performance Assessment Sterile Drug Product Manufacturing Stochastic Simulation
| SY-70 | 15 |
15:40~ 16:00 | N221 | 医薬品連続製造を対象とするプロセスシステム工学研究
| Pharmaceutical manufacturing Continuous manufacturing Process design
| SY-70 | 80 |
N 会場 ・ 第 3 日 |
SY-71 【システム・情報・シミュレーション部会シンポジウム】 (4) 第15回プロセスデザイン学生コンテスト |
(9:00~12:00) (司会 山下 善之・武田 和宏) |
9:00~ 12:00 | N301 | 第15回プロセスデザイン学生コンテスト
| process design education
| SY-71 | 41 |
(14:00~16:00) (司会 鈴木 剛・末吉 一雄・渕野 哲郎) |
14:00~ 16:00 | 講評,総合討論,表彰式
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