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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

講演プログラム検索結果 : Hidema R. : 4件

全てのセッションはオンライン学会会場で実施されます。
(9/10) 講演要旨を公開しました(参加登録者、ご招待者限定)。講演番号をクリックしてください。
(ID/PWは事前参加登録者には9/10に,当日参加登録者には9/23に(オンライン学会会場のID/PWと併せて)お知らせしました。)
(8/8) SY-69のフラッシュ発表は中止となりました。
(8/24,8/27) SY-74のX306,X307、HQ-11のD301の時間が変わりました。

ローマ字氏名 が『Hidema R.』と一致する講演：4件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
14:40～ 15:00		M118流動場中の高分子との絡まりあいに起因するポリエチレングリコールの流動抵抗の変化
(神戸大院工) ○(学)藤戸 健矢・ (正)日出間 るり・ (正)鈴木 洋
drag force
polymer conformation
polymer entanglement
SY-52389
第 1 日
15:40～ 16:00		J121アンモニウムミョウバンスラリーの相変化特性に貧溶媒が与える影響
(神戸大院工) ○(学)大坪 拓夢・ (正)日出間 るり・ (正)鈴木 洋
PCM Slurry
Ammonium Alum
Poor Solvent
SY-56274
第 2 日
14:20～ 14:40		I217半回分操作を用いたZIF-8包接球形シリカの調製
(神戸大院工) ○(学)河田 周英・ (神戸大工) 西川 優・ (神戸大院工) 島田 大樹・ (正)谷屋 啓太・ (正)日出間 るり・ (正)堀江 孝史・ (正)菰田 悦之・ (正)市橋 祐一・ (正)大村 直人・ (正)西山 覚・ (正)鈴木 洋
ZIF-8
latent heat
silica microcapsule
SY-63298
第 2 日
14:40～ 15:00		I218マイクロカプセル外表面でのシリカ薄膜形成にシラン修飾剤が及ぼす影響
(神戸大院工) ○(学)安村 充・ 島田 大樹・ (正)谷屋 啓太・ (正)堀江 孝史・ (正)日出間 るり・ (正)菰田 悦之・ (正)市橋 祐一・ (正)大村 直人・ (正)鈴木 洋・ (正)西山 覚
3-Aminopropyltriethoxysilane
SiO2 Thin Film
Silica Microcapsule
SY-63662

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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

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