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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

講演プログラム検索結果 : 特性評価 : 10件

全てのセッションはオンライン学会会場で実施されます。
(9/10) 講演要旨を公開しました(参加登録者、ご招待者限定)。講演番号をクリックしてください。
(ID/PWは事前参加登録者には9/10に,当日参加登録者には9/23に(オンライン学会会場のID/PWと併せて)お知らせしました。)
(8/8) SY-69のフラッシュ発表は中止となりました。
(8/24,8/27) SY-74のX306,X307、HQ-11のD301の時間が変わりました。

講演題目 が『特性評価』を含む講演:10件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの2件となります。

講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
第 1 日
9:009:20
S101双性イオンポリマーを用いた表面精密制御膜の開発とアンチファウリング特性評価
(東工大化生研) ○(正)大柴 雄平原田 悠佑(学)栗原 雄大(正)山口 猛央
Membrane fouling
Surface modification
Zwitterionic polymer
SY-61541
第 1 日
11:2011:40
S108低分子アミン含有CO2分離膜の揮発特性評価と揮発抑制化
(九大院工) ○(学)堀井 涼雅(学)本田 竜太朗(正)安藝 翔馬(九大I2CNER) (正)谷口 育雄(九大院工) (正)三浦 佳子(正)星野 友
CO2 separation
nano gel particle
low-molecular amine
SY-61863
第 2 日
10:3512:00
PA249レゾルシノール・ホルムアルデヒド球状イオン交換ゲルの作製とセシウムイオン吸着特性評価
(兵庫県大院工) ○(学)櫻木 隆次(正)田口 翔悟(正)山本 拓司(正)伊藤 和宏(正)前田 光治
cesium ion
spherical adsorbent
particle size distribution
SY-79255
第 2 日
12:4014:00
PB202VHHegfpをモデル分子認識素子とした多点相互作用の特性評価
(岡山大院自然) ○(学)池田 湧(正)石田 尚之(正)今村 維克(正)今中 洋行
molecular recognition
scaffold
multipoint interaction
SY-69828
第 2 日
14:0014:20
K216二酸化炭素を用いた超臨界溶体急速膨張(RESS)法による有機薄膜創製と薄膜特性評価
(金沢大院自然) ○(学)坂本 有衣小林 貴紀清澤 匠(学)釜田 若奈(金沢大理工) (正)内田 博久
RESS
Organic thin films
Supercritical CO2
ST-22781
第 3 日
9:3010:30
PA313有機キレート配位子を用いたTiO2-SiO2複合材料の特性評価と気体分離膜への応用
(神戸大院科技イノベ/先端膜セ) ○(学·技基)安成 竜輝(正)吉岡 朋久(正)中川 敬三(正)新谷 卓司(神戸大院工/先端膜セ) (正)神尾 英治(正)松山 秀人
TiO2-SiO2
gas separation
organic chelating ligands
SY-57633
第 3 日
9:3010:30
PA315タンパク質硬さを考慮した双性イオンポリマー精密修飾膜のアンチファウリング特性評価
(東工大化生研) ○(学)栗原 雄大(正)大柴 雄平(正)山口 猛央
Fouling
Surface modification
Protein
SY-57685
第 3 日
9:4010:00
R303噴霧乾燥法による酸化鉄とセルロースナノファイバー を複合したポーラス微粒子の合成と特性評価
(広大先進理工) ○(学·技基)豊田 耀平Annie M. R.(第一工業製薬) (法)北村 武大(法)後居 洋介(法)森田 祐子(広大先進理工) (正·修習)荻 崇
cellulose
protein adsorption
spray dry
SY-5489
第 3 日
10:0010:20
R304噴霧熱分解法による貴金属担持ZnO粒子の生成と有機染料の分解特性評価
(室蘭工大院工) ○(学)李 永俊(正)藤本 敏行(正)山中 真也(室蘭工大) (正)空閑 良壽
Ag/ZnO Particles
Au/ZnO particles
Spray Pyrolysis Method
SY-54277
第 3 日
13:0013:20
K313[招待講演] プラズマ化学気相成長法によるケイ素および窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン薄膜の特性評価
(弘前大院理工) 中澤 日出樹
diamond-like carbon
plasma-enhanced chemical vapor deposition
silicon
ST-22248

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