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化学工学会 第84年会

Last modified: 2019-03-12 11:30:00

講演プログラム検索結果 : 吸収 : 12件

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講演題目 が『吸収』を含む講演:12件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻
講演
番号
講演題目/発表者キーワード分類
番号
受理
番号
第 2 日
9:2011:20
PB247経皮麻酔薬における吸収促進剤のin vitro評価
(九大院工) ○(学)大平 功(正)田原 義朗(山口大医) 原田 耕志(九大院工) (正)後藤 雅宏
local anesthesia
transdermal drug delivery
7-e1483
第 2 日
9:2011:20
PB260ワクチン抗原の経皮吸収性能に及ぼす塩効果
(九大院工) ○(学)河口 颯輝(正)田原 義朗(正)若林 里衣(正)神谷 典穂(正)後藤 雅宏
transdermal
vaccine
7-e1481
第 2 日
9:2011:20
PB282固定床反応器における酸触媒粒子によるアミン吸収液からのCO2放散促進効果
(信州大院理工) ○(学)北澤 諒一(信州大繊維) (正)嶋田 五百里(正)長田 光正(正)福長 博(正)高橋 伸英
CO2 chemical absorption
CO2 stripping
Mass transfer coefficient
13-g1451
第 2 日
9:2011:20
PB283CO2吸収セラミックスのサイクル容量維持率の向上
(早大院) ○(学)上田 誉(正)中垣 隆雄
CO2 Capture and Storage (CCS)
Lithium silicate
Monte Carlo simulation
13-g29
第 2 日
9:2011:20
PB287酸性官能基修飾アルミナ粒子の添加がアミン吸収液からのCO2放散に及ぼす影響
(信州大院理工) ○(学)木原 千依(信州大繊維) (正)嶋田 五百里(正)長田 光正(正)福長 博(正)高橋 伸英
CO2 chemical absorption
CO2 stripping
Vapor-liquid equilibrium
13-g1456
第 2 日
16:2016:40
E223ガス透過性マイクロチャンネルを有するハイドロゲルフィルムのCO2吸収・放散特性
(九大院工) ○(正)寺山 友規(学)片渕 航汰(九大) 松田 潤子(九大院工) (正)井上 元(正)三浦 佳子(正)星野 友
CO2
Microchannel
Gas Diffusion
13-g1162
第 3 日
9:2011:20
PD345FT-IR分光法を利用した相分離型CO2吸収剤の組成決定手法の確立と評価
(名大工) ○(学)佐藤 美帆(名大院工) (海)チャン クゥイン(正)町田 洋(正)則永 行庸
FT-IR spectroscopy
CO2 capture
chemical absorption
4-d1106
第 3 日
9:2011:20
PD347ガス拡散相を導入したハイドロゲルフィルム内のフィラーの撥水性がCO2可逆吸収速度に与える影響
(九大院工) ○(学)片渕 航汰(正)寺山 友規山下 知恵本田 竜太朗(正)星野 友(正)三浦 佳子
gel particle
CO2 absorption
gas diffusion
4-d1262
第 3 日
9:2011:20
PD350量子化学計算による相分離型CO2吸収剤の相挙動予測
(名大工) ○(学)中岡 真菜(名大院工) (海)チャン クゥイン(正)町田 洋(正)則永 行庸
COSMO-RS
CO2 capture
Chemical absorption
4-d1104
第 3 日
10:4011:00
I306ハロゲン化オニウム塩とカルボン酸からなる深共融溶媒のCO2吸収特性
(日大院工) (学)谷口 彩夏(学)渡邊 正輝(日大工) 山森 稚大(正)児玉 大輔(産総研) (正)牧野 貴至(正)金久保 光央
deep eutectic solvent
CO2 solubility
saturated density
1-a1124
Day 3
10:5011:20
J306[Invited lecture] Development of CO2 chemical absorption process using porous hollow fiber membranes
(Shinshu U.) (Reg)Takahashi Nobuhide
Japan-China Symposium
K-21511
第 3 日
11:2011:40
I308CO2吸収プロセス設計のための[P2225][TFSA]熱力学的モデリング
(応用物性研) (正)大場 茂夫(日大院工) (学)渡邊 正輝(日大工) ○(正)児玉 大輔(産総研) (正)牧野 貴至(正)金久保 光央(日本化学工業) (法)濱西 恵里
ionic liquid
CCUS
PC-SAFT
1-e1093

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