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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

講演プログラム検索結果 : 塩素 : 3件

全てのセッションはオンライン学会会場で実施されます。
(9/10) 講演要旨を公開しました(参加登録者、ご招待者限定)。講演番号をクリックしてください。
(ID/PWは事前参加登録者には9/10に,当日参加登録者には9/23に(オンライン学会会場のID/PWと併せて)お知らせしました。)
(8/8) SY-69のフラッシュ発表は中止となりました。
(8/24,8/27) SY-74のX306,X307、HQ-11のD301の時間が変わりました。

講演題目 が『塩素』を含む講演：3件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。また、フラッシュ付きポスターの場合、フラッシュとポスターの２件となります。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
11:00～ 11:20		B107三フッ化塩素ガスによる 4H-SiC ウエハエッチング速度と分布の調整方法
SiC
ClF3
Etching
SY-7763
第 2 日
13:20～ 13:40		J214マイクロ空間を用いた光塩素化反応の検討
PhotoChlorination
Micro Space
Microreacter
SY-65747
第 2 日
13:40～ 14:00		K215テトラメチルシランを用いた塩素フリーな化学気相含浸法によるSiCf/SiCの製造
SiC
chemical vapor infiltration
tetramethylsilane
ST-22822
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化学工学会 第51回秋季大会 (2020)

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For more information contact 化学工学会 第51回秋季大会 実行委員会
E-mail: inquiry-51fwww3.scej.org