濃度 - 講演プログラム検索結果 - 化学工学会第83年会

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`化学工学会第83年会`

Last modified: 2018-02-27 10:00:00

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講演プログラム検索結果 : 濃度 : 14件

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
閲覧に必要なID/PWは受付でお配りするプログラム集冊子の1ページに記載しているほか、
事前参加登録者・ご招待者には2月27日にメールでお知らせしています。詳細

講演題目が『濃度』を含む講演：14件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演時刻	講演番号	講演題目／発表者	キーワード	分類番号	受理番号
第 1 日 13:20～ 15:20	PA135	アラニン水熱分解における濃度および解離種依存性に関する速度論的検討 (東北大院環) ○(学·技基)我妻正祥・ (東北大院工) (正)渡邉賢・ (東北大院環) (正)Smith Richard	Alanine Hydrothermal reaction Kinetics	8-d	690
第 1 日 13:20～ 15:20	PA150	非水溶媒を用いた濃度差発電に関する基礎研究 (大工大) ○(学)小嶋大貴・ (学)八谷直樹・ (学)村井裕太朗・ (正)宮本均	Electrodialysys-Reversal Nernst Potential Ion exchange Membrane	9-e	602
第 1 日 13:20～ 15:20	PA171	マイクロ波プラズマ支援燃焼による高濃度CO₂含有低品位CH₄の部分酸化改質 (九大院工) ○(学)内山慎也・ (正)山本剛・ (正)松根英樹・ (正)岸田昌浩	Microwave Plasma assisted combustion Partial oxidation reforming Low grade methane	9-e	331
第 1 日 15:00～ 15:20	O119	高濃度な単分散粒子分散液のShear-thickening挙動解析 (豊田中研) ○(正)中村浩・ (法)石井昌彦	Shear-thickening Dispersion Rheology	12-h	469
第 1 日 17:00～ 17:20	O125	低塩濃度極限における非線型電気泳動 (九大工) (正)名嘉山祥也	colloidal dispersion electrophresis direct numerical simulation	12-l	40
第 2 日 9:20～ 11:20	PB231	高濃度アミノ酸添加培地への耐性差による未分化ヒトiPSの選択的除去 (名大院工) ○(学)長島拓則・ (正)清水一憲・松本凌・ (名大PME/名大院工) (正)本多裕之	iPS Cells Selective elimination Osmotic pressure	7-c	98
第 2 日 9:20～ 11:20	PB242	Lactobacillus pentosus による乳酸発酵に及ぼすグルコース・焼酎粕濃度の影響 (大分大工) ○(学)中田光紀・ (正)國分修三・ (正)平田誠	Lactobacillus pentosus lactic acid fermentation	7-g	83
第 2 日 9:20～ 11:20	PB248	DO-stat流加培養による組換え大腸菌を用いた単鎖抗体の高濃度菌体外生産 (京工繊大院工芸) ○(学)坂本祐一朗・ (学)井嶋浩一朗・ (学)李歓・ (正)熊田陽一・ (正)堀内淳一	E.coli Fed-batch scFv	7-a	548
第 2 日 11:20～ 11:40	J208	超音波を用いた凍結濃縮分離における溶存気体濃度の影響 (愛媛大院理工) ○(正)川崎健二・三上洪作・ (山口大院理工) (正)中倉英雄	Ultrasonic irradiation Freeze concentration characteristics Dissolved gas concentration	4-b	209
第 2 日 11:40～ 12:00	I209	少数のモデル構築用データから利用可能な赤外スペクトルを入力に持つ濃度予測手法の開発 (東大院工) ○(学)柴山翔二郎・ (正)船津公人	Minimal calibration approach Infrared spectroscopy Process analytical technology	6-f	682
第 3 日 9:20～ 11:20	PD317	気泡塔型ガス吸収装置を用いた水へのオゾンの溶解と得られるオゾン含有水の残存オゾン濃度の経時変化 (阪府大工) ○(学)片山大暉・ (多田電機) 山内四郎・ (阪府大工) (正)安田昌弘	Ozone saturated water bubble column gas absorber ozone concentration in water	4-d	694
第 3 日 10:40～ 11:00	K306	SiC-CVIプロセスにおける高濃度原料供給条件下での製膜モデルの検討(2) (東大院工) ○(学)中智明・ (学)佐藤登・ (学)舩門佑一・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	CVI SiC	5-h	191
第 3 日 13:20～ 15:20	PE324	マイクロ流路を流れる固体粒子の慣性集約挙動の濃度限界に関する研究 (東大工) ○(学)鵜殿寛岳・ (正)酒井幹夫	inertial microfluidics separation DEM-DNS	2-e	42
第 3 日 13:20～ 15:20	PE385	低濃度高活性種と高濃度低活性種の複合原料によるカーボンナノチューブの大面積均一合成 (早大先進理工) ○(学·技基)佐藤俊裕・ (早大高等研) (正)杉目恒志・ (早大先進理工) (正)野田優	carbon nanotubes catalytic chemical vapor deposition carbon source	5-h	125

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