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化学工学会 第83年会

Last modified: 2018-02-27 10:00:00

講演プログラム検索結果 : 濃度 : 14件

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講演題目 が『濃度』を含む講演：14件該当しました。
検索結果は開始時刻順に並んでいます。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
第 1 日
13:20～ 15:20		PA135アラニン水熱分解における濃度および解離種依存性に関する速度論的検討
(東北大院環) ○(学·技基)我妻 正祥・ (東北大院工) (正)渡邉 賢・ (東北大院環) (正)Smith Richard
Alanine
Hydrothermal reaction
Kinetics
8-d690
第 1 日
13:20～ 15:20		PA150非水溶媒を用いた濃度差発電に関する基礎研究
(大工大) ○(学)小嶋 大貴・ (学)八谷 直樹・ (学)村井 裕太朗・ (正)宮本 均
Electrodialysys-Reversal
Nernst Potential
Ion exchange Membrane
9-e602
第 1 日
13:20～ 15:20		PA171マイクロ波プラズマ支援燃焼による高濃度CO2含有低品位CH4の部分酸化改質
(九大院工) ○(学)内山 慎也・ (正)山本 剛・ (正)松根 英樹・ (正)岸田 昌浩
Microwave Plasma assisted combustion
Partial oxidation reforming
Low grade methane
9-e331
第 1 日
15:00～ 15:20		O119高濃度な単分散粒子分散液のShear-thickening挙動解析
(豊田中研) ○(正)中村 浩・ (法)石井 昌彦
Shear-thickening
Dispersion
Rheology
12-h469
第 1 日
17:00～ 17:20		O125低塩濃度極限における非線型電気泳動
(九大工) (正)名嘉山 祥也
colloidal dispersion
electrophresis
direct numerical simulation
12-l40
第 2 日
9:20～ 11:20		PB231高濃度アミノ酸添加培地への耐性差による未分化ヒトiPSの選択的除去
(名大院工) ○(学)長島 拓則・ (正)清水 一憲・ 松本 凌・ (名大PME/名大院工) (正)本多 裕之
iPS Cells
Selective elimination
Osmotic pressure
7-c98
第 2 日
9:20～ 11:20		PB242Lactobacillus pentosus による乳酸発酵に及ぼすグルコース・焼酎粕濃度の影響
(大分大工) ○(学)中田 光紀・ (正)國分 修三・ (正)平田 誠
Lactobacillus pentosus
lactic acid fermentation
7-g83
第 2 日
9:20～ 11:20		PB248DO-stat流加培養による組換え大腸菌を用いた単鎖抗体の高濃度菌体外生産
(京工繊大院工芸) ○(学)坂本 祐一朗・ (学)井嶋 浩一朗・ (学)李 歓・ (正)熊田 陽一・ (正)堀内 淳一
E.coli
Fed-batch
scFv
7-a548
第 2 日
11:20～ 11:40		J208超音波を用いた凍結濃縮分離における溶存気体濃度の影響
(愛媛大院理工) ○(正)川崎 健二・ 三上 洪作・ (山口大院理工) (正)中倉 英雄
Ultrasonic irradiation
Freeze concentration characteristics
Dissolved gas concentration
4-b209
第 2 日
11:40～ 12:00		I209少数のモデル構築用データから利用可能な赤外スペクトルを入力に持つ濃度予測手法の開発
(東大院工) ○(学)柴山 翔二郎・ (正)船津 公人
Minimal calibration approach
Infrared spectroscopy
Process analytical technology
6-f682
第 3 日
9:20～ 11:20		PD317気泡塔型ガス吸収装置を用いた水へのオゾンの溶解と得られるオゾン含有水の残存オゾン濃度の経時変化
(阪府大工) ○(学)片山 大暉・ (多田電機) 山内 四郎・ (阪府大工) (正)安田 昌弘
Ozone saturated water
bubble column gas absorber
ozone concentration in water
4-d694
第 3 日
10:40～ 11:00		K306SiC-CVIプロセスにおける高濃度原料供給条件下での製膜モデルの検討(2)
(東大院工) ○(学)中 智明・ (学)佐藤 登・ (学)舩門 佑一・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
CVI
SiC
5-h191
第 3 日
13:20～ 15:20		PE324マイクロ流路を流れる固体粒子の慣性集約挙動の濃度限界に関する研究
(東大工) ○(学)鵜殿 寛岳・ (正)酒井 幹夫
inertial microfluidics
separation
DEM-DNS
2-e42
第 3 日
13:20～ 15:20		PE385低濃度高活性種と高濃度低活性種の複合原料によるカーボンナノチューブの大面積均一合成
(早大先進理工) ○(学·技基)佐藤 俊裕・ (早大高等研) (正)杉目 恒志・ (早大先進理工) (正)野田 優
carbon nanotubes
catalytic chemical vapor deposition
carbon source
5-h125

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化学工学会 第83年会

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