CD会場 - 講演プログラム（会場・日程別） - 化学工学会第50回秋季大会

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`化学工学会第50回秋季大会`

Last modified: 2018-09-04 10:00:00

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講演プログラム（会場・日程別） : CD会場

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
閲覧に必要なID/PWは受付でお配りするプログラム集冊子の1ページに記載しているほか、
事前参加登録者・ご招待者には9月4日にメールでお知らせしています。詳細

CD 会場(工学部共通棟 3F 302)

CD 会場・第 1 日 | CD 会場・第 2 日 | CD 会場・第 3 日
ST-23 | ST-25

講演時刻	講演番号	講演題目／発表者	キーワード	分類番号	受理番号
CD 会場(工学部共通棟 3F 302) ・第 1 日(9月18日(火))
ST-23 [部会横断型シンポジウム] 都市鉱山リサイクルに向けてのアプローチ
(9:00～10:20) (司会大島達也・村山憲弘)
9:00～ 9:40	CD101	[展望講演] 都市鉱山開発活性化への道 (NIMS) 原田幸明	Urban mining Recycle Reserves	ST-23	956
9:40～ 10:00	CD103	[依頼講演] 貴金属リサイクルの最近の動向 (田中貴金属工業) (正)奥田晃彦	Precious metal Recycling Wet process	ST-23	291
10:00～ 10:20	CD104	[依頼講演] 合わせガラス型太陽電池の低コスト分解処理技術 (ソーラーフロンティア) 原田秀樹	recycle CIS-PVmodule low cost	ST-23	201
10:20～ 10:40		休憩
(10:40～12:00) (座長松岡光昭・鈴木智也)
10:40～ 11:00	CD106	ハロゲン含有ピリジン誘導体を用いたPd(II)の選択的沈殿 (産総研) ○(正)鈴木智也・ (正)尾形剛志・小林徹・塩飽秀啓・矢板毅・ (正)成田弘一	palladium precipitant pyridine derivatives	ST-23	835
11:00～ 11:20	CD107	陰イオン除去能の付与を目的とした製鋼スラグの湿式処理について (関西大環都工) ○(学)園田知之・奥田優也・ (正)松岡光昭・ (正)村山憲弘・ (正)林順一	Steelmaking slag Anion removal agent Recycling	ST-23	302
11:20～ 11:40	CD108	フライアッシュを用いたジオポリマー硬化体の作製とその機械的特性におよぼす調製条件の影響 (関西大環都工) ○(正)松岡光昭・横山佳帆・ (正)村山憲弘・ (関西大化生工) 上田正人	Geopolymer Coal fly ash	ST-23	400
11:40～ 12:00	CD109	有機王水を用いた使用済み電気・電子機器からの金回収プロセスの開発 (千葉大院工) ○(学)鷹取孝太・峯尾知子・ (東京鐵鋼) 長瀬優希・名古屋隆司・櫻井憲一・佐々木文雄・ (エコナジー) 小田部和美・ (千葉大院工) (正)松野泰也	precious metal propylene carbonate recycling	ST-23	157
(13:00～14:40) (座長中井智司・後藤健彦)
13:00～ 13:20	CD113	[依頼講演] 使用済み超硬工具からの新規タングステン回収システムの開発 (広大院工) (正)荻崇	Urban mining Recycle Charged Amino Group Assisted Precipitation	ST-23	164
13:20～ 13:40	CD114	[依頼講演] アンチモンに選択性を有する吸着分離剤の開発 (産総研) ○(正)尾形剛志・ (正)成田弘一・ (正)鈴木智也・大石哲雄・ (正)田中幹也	antimony adsorption recovery	ST-23	438
13:40～ 14:00	CD115	パン酵母を利用する都市鉱山からの貴金属・レアメタル分離・回収 (阪府大院工) 斎藤範三・中谷昌揮・ (正)野村俊之・ ○(正)小西康裕	recycling precious and rare metals baker's yeast	ST-23	805
14:00～ 14:20	CD116	微生物機能を活用する白金族金属の資源循環・金属触媒調製 (阪府大院工) 斎藤範三・田中里依・ (正)野村俊之・ ○(正)小西康裕	recycling platinum group metals nanoparticle catalysts	ST-23	815
14:20～ 14:40	CD117	種々のモノマーから作製した高分子吸着剤による希土類元素の吸着挙動 (産総研/早大院創造理工) ○(学)篠崎智博・ (産総研) (正)尾形剛志・ (正)成田弘一・ (早大) (正)所千晴・ (産総研) (正)田中幹也	rare earth elements recovery adsorption	ST-23	346
14:40～ 15:00		休憩
(15:00～16:00) (座長大渡啓介・久保田富生子)
15:00～ 15:20	CD119	ベタイン型イオン交換樹脂による塩酸溶液中の白金族金属の吸着 (関西大環都工) ○(学)大坪右京・ (正)松岡光昭・ (正)村山憲弘・ (産総研) (正)鈴木智也・ (正)尾形剛志・ (正)成田弘一	Adsorption Platinum group metal Betaine-type ion-exchange resin	ST-23	301
15:20～ 15:40	CD120	ドロマイト系重金属吸着剤の開発とその特性 (新潟大工) ○(学)菊池竜矢・ (正)金熙濬	Heavy Metal Adsorbent Dolomite phosphorus	ST-23	631
15:40～ 16:00	CD121	ナイロンナノファイバー膜を用いた塩酸溶液中の金イオン回収プロセスの開発 (名大工) ○(正)向井康人・ (学)田辺智亮	nanofiber membrane adsorption gold ion	ST-23	1080
(16:00～17:20) (座長向井康人・上田祐生)
16:00～ 16:20	CD122	エーテル類による塩酸系からのAu(III)抽出に影響する構造的因子の検討 (宮崎大工) ○(正)大島達也・堀内隆志・ (学)小山貴生・ (学)松崎喜代治・ (正)大榮薫・ (日本ゼオン) (法)大槻記靖	gold extraction ether	ST-23	117
16:20～ 16:40	CD123	フッ素を導入したアミド型抽出試薬による貴金属の抽出 (佐賀大理工) ○(正)大渡啓介・橋口正宏・佐藤太亮・ (原子力機構) (正)上田祐生・ (佐賀大理工) (正)森貞真太郎・ (正)川喜田英孝・ (田中貴金属工業) 近江健太郎	Extraction Precious metals Amide	ST-23	623
16:40～ 17:00	CD124	新規イオン液体による自動車触媒浸出液からのPGMsの抽出分離 (九大院工) ○(正)久保田富生子・ Firmansyah M. Lutfi・ (学·技基)吉田航・ (正)後藤雅宏	ionic liquids PGMs recycle	ST-23	612
17:00～ 17:20	CD125	白金族金属の選択的抽出のための新規イオン液体開発 (原子力機構) ○(正)上田祐生・ (茨城大) 菊池圭	extraction platinum group metal ionic liquids	ST-23	1053
CD 会場(工学部共通棟 3F 302) ・第 2 日(9月19日(水))
ST-25 [部会横断型シンポジウム] CVD・ドライプロセス -デバイス構造・機能制御の反応工学-
(13:00～14:00) (座長霜垣幸浩)
13:00～ 13:40	CD213	[展望講演] 熱CVD法を用いた切削工具用硬質膜の開発と展望 (京セラ) (法)谷渕栄仁	CVD Cutting tool Hard coating	ST-25	468
13:40～ 14:00	CD215	アルキルアルミニウムを用いたアルミナ膜の新規合成法の開発 (京大院工) ○(学·技基)中村琢海・ (学)猪口和明・ (学)長田翔・ (京大工) (学)屋嘉比亮・ (正)河瀬元明	CVD alkyl aluminum alumina	ST-25	882
(14:00～15:00) (座長下山裕介)
14:00～ 14:20	CD216	熱CVD法による高Al組成fcc-TiAlN膜の合成(2) (東大院工) ○(学)山口潤・平原智子・ (京セラ) (法)久保隼人・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (京セラ) (法)谷渕栄仁・ (東大院工) (正)霜垣幸浩	CVD TiAlN cutting tool	ST-25	561
14:20～ 14:40	CD217	4H-SiC CVDトレンチ埋込成長機構及びHClガス添加効果の検討 (産総研) ○(正)望月和浩・紀世陽・足立亘平・小杉亮治・米澤喜幸・奥村元	4H-SiC trench filling HCl	ST-25	142
14:40～ 15:00	CD218	SiC-CVIプロセスにおける表面反応過程の理論検討 (東大院工) ○(学)佐藤登・ (正)中智明・ (学)根藤佳史・ (正)舩門佑一・ (IHI) (正)福島康之・ (東大院工) (正)出浦桃子・ (正)百瀬健・ (正)霜垣幸浩	SiC CVI Surface Reaction	ST-25	919
CD 会場(工学部共通棟 3F 302) ・第 3 日(9月20日(木))
(9:00～10:00) (座長川上雅人)
9:00～ 9:20	CD301	超臨界流体薄膜堆積による高アスペスト比構造への銅の均一製膜指針 (東大院工) ○(学)藤田翔太郎・ (正)出浦桃子・ (東工大院理工) (正)下山裕介・ (東大院工) (正)霜垣幸浩・ (正)百瀬健	Supercritical fluid deposition Diffusion coefficient Kinetics	ST-25	905
9:20～ 9:40	CD302	Supercritical dying and impregnation for fabrication of porous carbon electrode on Li-O₂/CO₂ battery (東工大物質理工) ○(学)Kunanusont Nattanai・ (正)下山裕介	Li- O2/CO2 battery supercritical carbon dioxide ionogel binder	ST-25	685
9:40～ 10:00	CD303	Tetracene thin film formation for organic photovoltaics by temperature-driven supercritical fluid deposition (東大院工) ○(学)黎彦劭・ (正)出浦桃子・ (東工大院理工) (正)下山裕介・ (東大院工) (正)霜垣幸浩・ (正)百瀬健	Temperature-driven Supercritical Fluid Deposition Crystallization Tetracene	ST-25	1058
(10:00～11:00) (座長野田優)
10:00～ 10:20	CD304	[招待講演] グラフェンをはじめとする二次元材料のCVD成長と生成機構 (九大GIC/産総研) 吾郷浩樹	graphene epitaxial growth hexagonal boron nitride	ST-25	44
10:20～ 10:40	CD305	硫化水素添加が熱分解炭素CVDに及ぼす影響 (京大工) ○(学·技基)牧野優作・ (正)河瀬元明	CVD Carbon Hydrogen sulfide	ST-25	978
10:40～ 11:00	CD306	Cs_xWO₃ ナノ粒子の火炎噴霧合成と光学特性 (広大院工) ○(学)平野知之・中倉修平・ (学)Rinaldi Febrigia Ghana・ (正·修習)荻崇	cesium tungsten bronze flame-assisted spray pyrolysis aerosol	ST-25	113
(11:00～12:00) (座長島田学)
11:00～ 11:20	CD307	浮遊触媒形成の温度場制御と単層カーボンナノチューブの気相合成 (早大先進理工) ○(学)並木克也・ (早大高等研) (正)杉目恒志・ (早大先進理工) (正)大沢利男・ (正)野田優	single-wall carbon nanotube reaction field control floating catalyst chemical vapor deposition	ST-25	336
11:20～ 11:40	CD308	ミストCVD法による高品質酸化亜鉛薄膜の作製および反応メカニズムの解明 (高知工大院) ○(学)西美咲・ (高知工大) 長谷川諒・安岡龍哉・ (高知工大院) 上田真理子・坂本雅仁・佐藤翔太・ Phimolphan Ruttongja・ Liu Li・ (高知工大院/総研) Dang. T Gian・川原村敏幸	Mist CVD ZnO reaction mechanism	ST-25	879
11:40～ 12:00	CD309	減圧熱CVD法で作製したリチウムドープ酸化亜鉛薄膜の比誘電率 (東海大院工) ○(学)竹元慧・ (正)秋山泰伸	CVD Lithium-doped Zinc Oxide Ferroelectric	ST-25	832
(13:00～14:00) (座長秋山泰伸)
13:00～ 13:40	CD313	[展望講演] 接触分解反応による活性種を利用した薄膜堆積と表面改質:HWCVD法の基礎と応用展開 (九工大工) 和泉亮	HWCVD Thin film Surface modification	ST-25	243
13:40～ 14:00	CD315	アミノシラン系SiO₂-ALDの反応速度解析 (東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) ○(正)川上雅人・加賀谷宗仁・光成正・佐藤潤・矢部和雄	ALD aminosilane reaction kinetics	ST-25	226
(14:00～15:00) (座長筑根敦弘)
14:00～ 14:20	CD316	[招待講演] プラズマエッチングにおけるSiO₂/Si界面準位の生成と制御 (ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング) ○長畑和典・重歳卓志	Plasma Etching Damage	ST-25	330
14:20～ 14:40	CD317	RFプラズマCVDによるTiB系硬質膜の製膜と評価 (阪府大院工) ○(学)清川大地・ (阪府大工) 冨士和樹・ (阪府大院工) (正)岡本尚樹・ (正)齊藤丈靖	hard coating plasma CVD TiBCN	ST-25	937
14:40～ 15:00	CD318	Ag粒子とTiO₂粒子の堆積で作製した複合薄膜の可視光照射下での光触媒活性 (広大院工) ○(学·技基)正木佑弥・姜殿平・ (正)久保優・ (正)島田学・ (広大院工/ITS Surabaya) (正)Kusdianto K.	PVD PECVD nanoparticle	ST-25	576

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